穩定 高速

• 同時對應 8" & 12" 晶圓的傳送
• 內部微環境的潔淨度控制，採以 CFD 流體分析驗證，並確保內外壓差之設計，使 Wafer 傳送過程不受汙染
• 最佳化的 Robot 運動軌跡，以最短路徑加上曲線補間達到快速穩定的傳送
• 超高速的晶圓定位器，利用動態影像精準演算、快速定位出晶圓中心與方向
• 完整的記錄數據，可滿足工業 4.0 之預測性維護 

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